鈣鈦礦蒸鍍設備
蒸鍍生產線
產品特(te)點
真空過渡分為1000Pa、1Pa、10-4Pa三級，異于10Pa、10-4Pa兩級(ji)模(mo)式(shi)，最大優化羅(luo)茨(ci)泵在1000Pa~1Pa的抽氣效(xiao)率，降低設備(bei)低真(zhen)空(kong)段的泵組配(pei)置，減少設備(bei)能耗(hao)節約成本。
采用低溫泵在鍍膜前進行樣片運送(song)時水(shui)汽的收(shou)集(ji)，抽氣效率高，對設(she)備(bei)場地濕度要求降(jiang)低，減(jian)少生(sheng)產建設(she)投資(zi)。
線(xian)性源采用(yong)一體(ti)化加熱(re)及模塊(kuai)化坩(gan)堝拼(pin)接設計，坩(gan)堝個體(ti)尺寸小(xiao)具有極小(xiao)的(de)熱(re)變形(xing)，坩(gan)堝位置可調(diao)節具有鍍(du)膜均勻性調(diao)節的(de)作(zuo)用(yong)。
技術參數 | |
|---|---|
| 設備型號 | ZDX-300（600、1200） |
| 極限真空 | 8×10-5Pa |
| 腔室功能分類 | 進、出樣室（1000Pa） |
| 低真空過渡室（1Pa） | |
| 高真空過渡室（5×10-4Pa） | |
| 蒸鍍室（5×10-4Pa） | |
| 蒸發源類型 | 線性源：室溫~700℃，水冷 |
| 蒸發距離 | 120~300mm |
技術參數 | |
|---|---|
| 樣品幅寬 | 300、600、1200mm |
| 常用蒸發材料 | C60、BCP、LiF、PbI2、CsBr、Cu等 |
| 鍍膜節拍 | ≥60s |
| 連續運行時間 | ≥300h |
| ≥50h（C60、1A/s） | |
| 膜厚均勻性 | ≤±5% |
| 鍍膜速率穩定性 | ≤±0.1A/s |
| 鍍膜時樣品溫度 | ≤60℃ |
技術優勢 |
|---|
| 針對電子傳輸層（C60）蒸發鍍膜設備 |
| 針對C60蒸發材料吸附氧、水汽對蒸鍍穩定性的影響，在鍍膜室進行預蒸發處理、深冷收集等處理，提高C60蒸鍍溫度穩定性，延長連續鍍膜時間。 |
| 線性源根據C60特性，蒸發口采用不遮擋方式，蒸發速率更快、減少冷凝載體面積、穩定性更好。 |
技術優勢 |
|---|
| 針對鈣鈦礦層共蒸發鍍膜設備 |
| 兼容2-3源共蒸發 |
| 共蒸發源具有2種工作模式，同步混合鍍膜，分層交替鍍膜，針對不同材料的物理特性具有更好的兼容性和共蒸發效果。 |
| 線性源mask具有多孔、狹縫、寬縫等多樣化結構方式，針對不同材料的物理特性能夠分別解決：樣品降溫、減少mask冷凝、蒸發效率調控、發散角調控等問題。 |
